Книжная полка Сохранить
Размер шрифта:
А
А
А
|  Шрифт:
Arial
Times
|  Интервал:
Стандартный
Средний
Большой
|  Цвет сайта:
Ц
Ц
Ц
Ц
Ц

Лазерные технологии в электронном машиностроении

Покупка
Новинка
Артикул: 837729.01.99
Доступ онлайн
480 ₽
В корзину
Дано общее представление о процессах лазерной обработки полупроводников с целью рекристаллизации и отжига, описаны лазерные технологии модифицирования и изменения химического состава поверхностных слоев, напыления и осаждения тонких пленок, процессы лазерного легирования поверхности полупроводников. Также в пособии рассмотрены физико-химические и технологические процессы лазерной обработки пленок и деталей микроэлектроники, дана классификация методов лазерной обработки, рассмотрены методы подгонки параметров элементов микроэлектроники, размерной обработки и маркировки тонких пленок. Для студентов 6-го курса, изучающих дисциплину «Лазерная микротехнология».
Малов, И. Е. Лазерные технологии в электронном машиностроении : учебное пособие / И. Е. Малов, И. Н. Шиганов. - Москва : Изд-во МГТУ им. Баумана, 2008. - 24 с. - Текст : электронный. - URL: https://znanium.ru/catalog/product/2161428 (дата обращения: 22.11.2024). – Режим доступа: по подписке.
Фрагмент текстового слоя документа размещен для индексирующих роботов
Московский государственный технический университет  
имени Н.Э. Баумана 
И.Е. Малов, И.Н. Шиганов 
 
 
 
 
ЛАЗЕРНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ  
В ЭЛЕКТРОННОМ МАШИНОСТРОЕНИИ 
 
 
Рекомендовано редсоветом МГТУ им. Н.Э. Баумана 
в качестве учебного пособия 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
М о с к в а  
Издательство МГТУ им. Н.Э. Баумана 
2 0 0 8  
 


УДК 621.375.826(075.8) 
ББК 32.86 
М197 
Рецензенты: В.К. Драгунов, Ю.В. Панфилов  
М197
 
Малов И.Е., Шиганов И.Н.  
  
 
     Лазерные технологии в электронном машиностроении: 
Учеб. пособие. — М.: Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2008. — 
24 с.: ил. 
 
Дано общее представление о процессах лазерной обработки полупроводников с целью рекристаллизации и отжига, описаны лазерные технологии модифицирования и изменения химического состава 
поверхностных слоев, напыления и осаждения тонких пленок, процессы лазерного легирования поверхности полупроводников. Также в 
пособии рассмотрены физико-химические и технологические процессы лазерной обработки пленок и деталей микроэлектроники, дана 
классификация методов лазерной обработки, рассмотрены методы 
подгонки параметров элементов микроэлектроники, размерной обработки и маркировки тонких пленок. 
Для студентов 6-го курса, изучающих дисциплину «Лазерная 
микротехнология». 
 
УДК 621.375.826(075.8) 
ББК 32.86 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 © МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2008 
 


ВВЕДЕНИЕ 
Лазерными микротехнологиями принято называть лазерные 
технологии обработки материалов, в которых физико-химические 
процессы, вызванные в материале воздействием лазерного излучения, локализованы в области, не превосходящей несколько десятков микрон. 
В настоящее время данные технологии находят достаточно 
широкое применение в промышленности. Наиболее востребованными среди лазерных микротехнологий являются: 
1) лазерная обработка полупроводников; 
2) модифицирование и изменение химического состава поверхностных слоев; 
3) микропроцессы обработки с испарением обрабатываемого 
материала [1]. 
В данном пособии отражены современные представления о построении технологических процессов в электронной промышленности.  
1. ЛАЗЕРНЫЙ ОТЖИГ  
ИМПЛАНТИРОВАННЫХ СЛОЕВ 
Многие замечательные достижения последних лет в области 
полупроводниковой электроники, в частности, улучшение характеристик приборов, уменьшение их размеров, увеличение выхода 
годных изделий, связаны с применением технологии ионной имплантации. Метод ионной имплантации состоит в легировании 
полупроводника необходимым элементом, которое осуществляется облучением поверхности полупроводника потоком данного элемента при ускоряющем напряжении в несколько киловольт. Эта 
 
3 


Доступ онлайн
480 ₽
В корзину