Магнетронные распылительные системы. Часть 1. Устройство, принципы работы, применение
Покупка
Новинка
Тематика:
Электричество и магнетизм. Физика плазмы
Год издания: 2014
Кол-во страниц: 56
Дополнительно
Вид издания:
Учебное пособие
Уровень образования:
ВО - Бакалавриат
ISBN: 978-5-7038-3798-6
Артикул: 837695.01.99
Рассмотрены устройство, принцип работы и основные характеристики магнетронных распылительных систем (МРС). Изложены физические процессы и особенности работы МРС. Перечислены основные типы и конструктивные схемы МРС. Дан пример конструкции МРС с электромагнитной системой. Для студентов старших курсов, обучающихся по специальности «Плазменные энергетические установки», а также для аспирантов и инженеров, занимающихся разработкой и конструированием МРС.
Тематика:
ББК:
УДК:
- 537: Электричество. Магнетизм. Электромагнетизм
- 621: Общее машиностроение. Ядерная техника. Электротехника. Технология машиностроения в целом
ОКСО:
ГРНТИ:
Скопировать запись
Фрагмент текстового слоя документа размещен для индексирующих роботов
Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана Д.В. Духопельников Магнетронные распылительные системы В двух частях Часть 1 Устройство, принципы работы, применение Рекомендовано Научно-методическим советом МГТУ им. Н.Э. Баумана в качестве учебного пособия по курсу «Технологические ионно-плазменные установки» Москва Издательство МГТУ им. Н.Э. Баумана 2014
УДК 621.793:537.525(075.8) ББК 32.848.4 Д85 Рецензенты: Л.А. Дудко, В.П. Подчезерцев Д85 Духопельников Д. В. Магнетронные распылительные системы : учеб. пособие: в 2 ч. — Ч. 1 : Устройство, принципы работы, применение / Д .В. Духопельников. — М. : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2014. — 53, [2] с. : ил. ISBN 978-5-7038-3798-6 Рассмотрены устройство, принцип работы и основные характеристики магнетронных распылительных систем (МРС). Изложены физические процессы и особенности работы МРС. Перечислены основные типы и конструктивные схемы МРС. Дан пример конструкции МРС с электромагнитной системой. Для студентов старших курсов, обучающихся по специальности «Плазменные энергетические установки», а также для аспирантов и инженеров, занимающихся разработкой и конструированием МРС. УДК 621.793:537.525(075.8) ББК 32.848.4 ISBN 978-5-7038-3798-6 c ⃝МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2014
ВВЕДЕНИЕ Магнетронная распылительная система (МРС) является одним из наиболее перспективных технологических устройств в ионноплазменной технологии. Эта система имеет неоспоримые преимущества при нанесении покрытий на большие площади, что ставит ее на первое место при создании рулонных и листовых материалов со специальными свойствами. Магнетроны применяются при создании гибких печатных плат, легких электростатических экранов и экранно-вакуумной изоляции для космической техники, теплосберегающего остекления, экранов систем отображения информации. Особенно выгодно применять МРС для создания многослойных наноструктурированных покрытий в машиностроении, оптике, электронике. Все это определяет интерес промышленности к совершенствованию этих устройств, разработке новых схем и технологий их применения. Еще 35 лет назад зажечь разряд в МРС считалось большим искусством. Экспериментаторы делились между собой опытом и вырабатывали критерии (зачастую ошибочные), по которым можно было определить, заработает магнетрон или нет. В настоящее время МРС стали одними из наиболее широко используемых ионно-плазменных технологических устройств. За прошедшие годы разработано много конструктивных схем МРС, проведен большой объем научных исследований. Выяснилось, что в физическом плане магнетронный разряд очень сложен и неудобен при экспериментальных исследованиях, а теоретические модели громоздки и плохо согласуются с опытом. Несмотря на это, разработчики проектируют эти устройства, руководствуясь весьма простыми эмпирическими критериями. Практически всегда разряд 3
в МРС зажигается, но, как правило, магнетрон работает неудовлетворительно, и допущенные ошибки исправляются после длительной экспериментальной отработки. Таким образом, и в настоящее время успех при проектировании новой МРС зависит от личного экспериментального опыта разработчика. Существует немного русскоязычной литературы, дающей относительно полное представление об МРС [1–3]. Огромное количество сведений и результатов экспериментальных исследований МРС рассредоточено по периодической литературе, что вызывает трудности при изучении этих устройств. Магнетронные распылительные системы по принципу организации разрядного промежутка похожи на холловские ускорители (ускорители с анодным слоем и стационарные плазменные двигатели). Физические процессы в холловских ускорителях описаны в работах [4, 5]. Поток материала в МРС получается в результате распыления катода ионами (катодное распыление). Физические основы процессов, происходящих при катодном распылении, изложены в работах [6–8]. В данной работе автор хотел поделиться практическим опытом исследований, создания и эксплуатации МРС, чтобы облегчить труд студентов и разработчиков при изучении и проектировании данных устройств.
1. ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ О МАГНЕТРОННЫХ РАСПЫЛИТЕЛЬНЫХ СИСТЕМАХ Магнетронные распылительные системы начали применять для нанесения тонких пленок с начала 1970-х годов [9]. Они пришли на смену системам катодного распыления, ранее широко применявшимся в полупроводниковой промышленности. При этом МРС составили конкуренцию системам термовакуумного испарения и электронно-лучевого испарения [10], особенно при нанесении покрытий из тугоплавких материалов и при нанесении покрытий на плоские подложки большой площади (архитектурное стекло, листовые и рулонные материалы). Магнетронные распылительные системы позволяют распылять и наносить покрытия практически любых металлов, сплавов, проводящих и диэлектрических керамик, при этом толщина покрытия может составлять от нескольких нанометров до нескольких десятков микрометров. После разработки МРС их очень быстро начали внедрять в промышленности. С середины 1970-х годов МРС применяют для нанесения проводящих слоев при производстве микросхем и нанесения различных оптических покрытий. В конце 1970-х годов появились оснащенные МРС поточные линии для непрерывного нанесения покрытий на архитектурное стекло. В начале 1980-х годов МРС начали использовать для нанесения упрочняющих покрытий на режущий инструмент. С середины 1980-х годов МРС применяют для нанесения магнитных покрытий на жесткие диски накопителей информации. В настоящее время МРС широко распространены в нанотехнологии. С их помощью наносят различные наноструктурированные покрытия, имеющие от нескольких десятков до нескольких ты5
сяч слоев из различных материалов с толщиной слоя от единиц до десятков нанометров. Таким способом получают износостойкие покрытия высочайшей твердости, сварочные фольги, специальные оптические покрытия (например, зеркала и интерференционные фильтры, работающие в жестком ультрафиолетовом или рентгеновском излучении), покрытия со специальными электрофизическими свойствами, например, пленки с эффектом «гигантского магнитного сопротивления» (GMR-эффект), которые используются для создания чувствительных датчиков магнитного поля или головок чтения информации в современных жестких дисках компьютеров. Преимуществами МРС являются: • высокие скорости нанесения покрытия (в десятки раз больше, чем при катодном распылении); • невысокие тепловые нагрузки на подложку, что важно при нанесении покрытий на полимерные подложки; • возможность нанесения покрытий сложного состава из сплавов (например, при термовакуумном испарении происходит сепарация компонентов сплава); • возможность нанесения покрытий в среде реактивного газа (оксиды, нитриды, карбиды); • возможность нанесения покрытия с хорошей воспроизводимостью по толщине и составу на подложки больших размеров (эта особенность МРС определяет их главное преимущество перед остальными системами при нанесении покрытий на рулонные и листовые материалы); • возможность использовать МРС в технологических линиях с непрерывным нанесением покрытий благодаря большому запасу материала в распыляемом катоде (время напыления 5–20 дней). К недостаткам МРС следует отнести: • относительно высокую энергоемкость процесса (500 эВ на один распыленный атом против 50 эВ при вакуумно-дуговом испарении); • нестабильность реактивных процессов при нанесении оксидов, нитридов и карбидов металлов и, как следствие, необходимость применения сложных систем контроля и управления разрядом. 6