Проектирование и конструирование полупроводниковых приборов ИС и БИС : проектирование и расчет КМОП-схем с коротким каналом
Покупка
Тематика:
Полупроводниковая электроника
Издательство:
Издательский Дом НИТУ «МИСиС»
Год издания: 2000
Кол-во страниц: 57
Дополнительно
В пособии представлен метод расчета и анализа параметров КМОП-схем с минимальными топологическими размерами 1,25 мкм, учтен ряд основных параметров и физических эффектов, существенных для МОП-транзистора с коротким каналом: концентрация примеси в подложке, снижение потенциального барьера под действием стока, эффекты горячих электронов, пробивное напряжение переходов, насыщение скорости носителей и т. д. В пособии показано, как с помощью достаточно простых аналитических выражений можно определить базовые конструктивно-технологические параметры ИС и рассчитать динамические параметры весьма близкие к тем, которые дает более детальное моделирование по пакетам программ схемотехнического моделирования MicroCap и PSPIСE. Предполагается, что студенту известны физические принципы работы МОП-транзисторов, и поэтому они не рассматриваются.
Тематика:
ББК:
УДК:
ОКСО:
- ВО - Бакалавриат
- 11.03.01: Радиотехника
- 11.03.03: Конструирование и технология электронных средств
- 11.03.04: Электроника и наноэлектроника
ГРНТИ:
Скопировать запись
Фрагмент текстового слоя документа размещен для индексирующих роботов
Ладыгин Е.А., Мурашев В.Н., Лагов П.Б. ПРОЕКТИРОВАНИЕ И КОНСТРУИРОВАНИЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ, ИС И БИС Раздел: Проектирование и расчет КМОП-схем с коротким каналом Учебное пособие МОСКВА, 2000 № 1534
Кафедра полупроводниковой электроники и физики полупроводников Ладыгин Е.А., Мурашев В.Н., Лагов П.Б. Одобрено методическим советом института ПРОЕКТИРОВАНИЕ И КОНСТРУИРОВАНИЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ, ИС И БИС Раздел: Проектирование и расчет КМОП-схем с коротким каналом Учебное пособие по курсовому проектированию для студентов специальности 2002.00 МОСКВА, 2000 № 1534
УДК 621.38.049.77.001.6 (075.8) АННОТАЦИЯ В пособии представлен метод расчета и анализа параметров КМОП-схем с минимальными топологическими размерами 1,25 мкм; учтен ряд основных параметров и физических эффектов, существенных для МОП-транзистора с коротким каналом: концентрация примеси в подложке, снижение потенциального барьера под действием стока, эффекты горячих электронов, пробивное напряжение переходов, насыщение скорости носителей и т. д. В пособии показано, как с помощью достаточно простых аналитических выражений можно определить базовые конструктивно-технологические параметры ИС и рассчитать динамические параметры весьма близкие к тем, которые дает более детальное моделирование по пакетам программ схемотехнического моделирования MicroCap и PSPIСE. Предполагается, что студенту известны физические принципы работы МОП-транзисторов, и поэтому они не рассматриваются. Московский государственный институт стали и сплавов (Технологический университет) (МИСиС) 2000
СОДЕРЖАНИЕ 1. Выбор базового структурно-топологического варианта МОП–транзистора …….………………………………………… 4 2. Выбор степени легирования подложки ….………………….. 6 3. Основные электрофизические параметры МОП-приборов 13 3.1. Основные расчетные формулы …………………………….. 13 3.2. Технологические режимы для задания порогового напряжения и напряжений инверсии ………………………..17 4. Динамические параметры КМОП-приборов ………………. 27 4.1. Обогащенный полевой транзистор с изолированным затвором и коротким каналом ………………………………. 27 4.2. Переключательные характеристики КМОП-вентиля ……... 33 4.3. Примеры расчета динамических параметров инверторов …41 Заключение ………………………………….……………………… 49 Список условных обозначений ………...………………………… 51
1. ВЫБОР БАЗОВОГО СТРУКТУРНОТОПОЛОГИЧЕСКОГО ВАРИАНТА МОП-ТРАНЗИСТОРА Размеры базового структурно-топологического варианта МОП-транзистора с проектной нормой 1,25 мкм определяются топологическими и структурными ограничениями конкретной технологии, а также допусками на совмещение при фотолитографии. На рис. 1.1 показан фрагмент типового фотошаблона и соответствующие ему минимальные топологические размеры для p- и nканального транзисторов. Длины каналов p- и n-канальных транзисторов соответственно должны быть равны: Lp = 1,8 мкм; Ln = 1,6 мкм. Рис. 1.1. Фотошаблон МОП-транзистора После проведения всех технологических операций поперечное сечение структуры транзистора имеет вид, показанный на
1. Выбор базового структурно-топологического варианта МОП-транзистора 5 рис. 1.2. Важно отметить, что имплантированный слой, расположенный под защитным оксидом должен вплотную примыкать к активным областям прибора. Выполнение этого условия необходимо для предотвращения краевых токов утечки между областями стока и истока. Как для p- так и для n-канального транзистора размеры затвора и диффузионных областей истока – стока (И/С) подбираются так, чтобы эффективная длина канала Le составила 1 мкм. Рис. 1.2. Поперечное сечение прибора после изготовления: LG – длина затвора; LD – длина боковой диффузии; xj – глубина p – n-перехода; Lj – длина истока; tR – толщина защитного оксида; tox – толщина подзатворного оксида; tLOC – толщина локального оксида. Требуемые значения параметров n- и p-канальных МОП-транзисторов представлены в таблице: Параметры n- и p-канальных транзисторов, мкм Параметр Тип транзистора n-канальный p-канальный LG 1,3 1,5 LD 0,15 0,25 xj 0,2 0,3 Lj 4,0 Le 1