Материалы и элементы электронной техники : расчет режимов термического окисления и диффузии при формировании легированных слоев
Покупка
Издательство:
Издательский Дом НИТУ «МИСиС»
Год издания: 2007
Кол-во страниц: 16
Дополнительно
В практикуме рассматриваются принципы расчета режимов термического окисления, обеспечивающего заданную толщину маскирующей оксидной пленки, и режимов диффузии при формировании легированных слоев с заданными параметрами для кремниевых приборных структур. Излагается методика расчетов в программе Math Cad 2001. Соответствует программе курса «Материалы и элементы электронной техники». Предназначен для студентов, обучающихся по специальностям 150601 «Материаловедение и технология новых материалов» и 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника».
Тематика:
ББК:
УДК:
ОКСО:
- ВО - Бакалавриат
- 11.03.04: Электроника и наноэлектроника
- 22.03.01: Материаловедение и технологии материалов
ГРНТИ:
Скопировать запись
Фрагмент текстового слоя документа размещен для индексирующих роботов
№ 1246 ФЕДЕРАЛЬНОЕ АГЕНТСТВО ПО ОБРАЗОВАНИЮ Кафедра материаловедения полупроводников и диэлектриков А.А. Полисан В.П. Астахов Материалы и элементы электронной техники Расчет режимов термического окисления и диффузии при формировании легированных слоев Практикум Рекомендовано редакционноиздательским советом университета Москва Издательство ´УЧЕБАª 2007
УДК 621.315.59 П50 Р е ц е н з е н т канд. физ.-мат. наук, доц. Ю.В. Осипов Полисан А. А., Астахов В. П. П50 Материалы и элементы электронной техники: Расчет режимов термического окисления и диффузии при формировании легированных слоев: Практикум. – М.: МИСиС, 2007. – 16 с. В практикуме рассматриваются принципы расчета режимов термического окисления, обеспечивающего заданную толщину маскирующей оксидной пленки, и режимов диффузии при формировании легированных слоев с заданными параметрами для кремниевых приборных структур. Излагается методика расчетов в программе Math Cad 2001. Соответствует программе курса «Материалы и элементы электронной техники». Предназначен для студентов, обучающихся по специальностям 150601 «Материаловедение и технология новых материалов» и 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника». © Государственный технологический университет «Московский институт стали и сплавов» (МИСиС), 2007